Beke I. - Bereczkei F.:
Az ábraleképzés optimalizálásának lehetőségei LSI
maszkok készítéséhez
A nagy bonyolultságú integrált áramkörök technológiájában egyre fokozódó követelményt jelent az egyes rétegek kialakítására szolgáló maszkok előállítása A szerzők a cikkben egyrészt azt vizsgálják, hogy hogyan lehet minimális számú expozícióval leképezni az ábrákat, másrészt azt keresik, hogy adott számú expozíciót hogyan lehet minimális idő alatt végrehajtani.